專用掃描透射顯微鏡HD-2700，配備了與德國CEOS GmbH公司（總經理Max Haider先生）共同開發的球差校正儀，顯著提高了掃描透射電子顯微鏡的性能，更適合納米技術研究。由于球差校正系統校正了限制電子顯微鏡的性能的球差，使其與標準型號顯微鏡相比，分辨率提高了1.5倍，同時，探針電流提高了10倍。

*近，該顯微鏡還配備了高分辨率鏡頭和冷場發射電子槍，進一步提高了圖像分辨率和電子束能量分辨率。同時，該型號系列還增加了一款不帶球差校正的主機配置，可以以后加配球差校正進行升級。

特點
 
高分辨率掃描透射電子顯微鏡成像
HAADF-STEM圖像0.136nm，FFT圖像0.105nm（高分辨率鏡頭（*））
HAADF-STEM圖像0.144nm（標準鏡頭）
明場掃描透射電子顯微鏡圖像0.204nm（w/o球差校正儀）
高速，高靈敏度能譜分析：探針電流×10倍
元素面分布更迅速及時
低濃度元素檢測
操作簡化
自動圖像對中功能
從樣品制備到觀察分析實現無縫連接
樣品桿與日立聚焦離子束系統兼容
配有各種選購件可執行各種評估和分析操作
同時獲取和顯示SE&BF, SE&DF, BF&DF, DF/EDX面分布（*） 和DF/EELS面分布（*）圖像。
低劑量功能（*）（使樣品的損傷和污染程度降至*低）
高精度放大校準和測量（*）
實時衍射單元（*）（同時觀察暗場-掃描透射電子顯微鏡圖像和衍射圖案）
采用三維微型柱旋轉樣品桿（360度旋轉）（*），具有自動傾斜圖像獲取功能。
ELV-3000即時元素面分布系統（*）（同時獲取暗場-掃描透射電子顯微鏡圖像）
（*） 選購件

技術指標
HD-2700球差校正掃描式透射電子顯微鏡

項目		描述
圖像分辨率	w/o球差校正儀	保證 0.204nm（當放大倍數為4,000,000時）
	w球差校正儀	保證 0.144 nm（當放大倍數為7,000,000時）（標準鏡頭）
		保證 0.136nm（HAADF圖像） 保證0.105 nm（通過FFT）（當放大倍數為7,000,000時）（高分辨率鏡頭（*））
放大倍數		100倍 至 10,000,000倍
加速電壓		200 kV, 120 kV （*）
成像信號		明場掃描透射電子顯微鏡：相襯圖像（TE圖像） 暗場掃描透射電子顯微鏡：原子序數襯度圖像（Z襯度圖像） 二次電子圖像（SE圖像） 電子衍射（*） 特征X射線分析和面分布（能譜分析）（*） 電子能量損失譜分析和面分布（EV3000）（*）
電子光學系統	電子源	肖特基發射電子源
		冷場致發射器（*）
	照明透鏡系統	2-段聚光鏡鏡頭
	球差校正儀（*）	六極鏡頭設計
	掃描線圈	2-段式電磁感應線圈
	原子序數襯度收集角控制	投影鏡設計
	電磁圖像位移	±1 μm
試片鏡臺	樣品移動	X/Y軸 = ±1 mm, Z軸 = ±0.4 mm
	樣品傾斜	單軸-傾斜樣品桿：±30°（標準鏡頭）, ±18°（高分辨率鏡頭（*））
真空系統		3個離子泵，1個TMP
	極限真空	10-8 Pa（電子槍）, 10-5 Pa（樣品室）
圖像顯示	個人電腦／操作系統	PC/AT兼容, Windows? XP
	監視器	19-inch液晶顯示器面板
	圖像幀尺寸	640 × 480, 1,280 × 960, 2,560 × 1,920 象素
	掃描速度	快掃，慢掃（0.5至320秒／幀）
	自動數據顯示	記錄序號，加速電壓，下標尺，日期，時間