低PH形態的HT-MC3是針對從聚酰胺、聚砜和復合膜表面清除金屬氫氧化物、碳酸鈣和其他類似的鹽等無機類結垢物的清洗劑，這種先進高濃度的粉劑有下列特點：
● PH調節到3.0±0.5
● 在常溫下也有高的效率
● 不含表面活性劑且能被快速沖走
● 含有機酸、洗滌劑及螯合劑
【使用說明】
● HT-MC3 適用于聚酰胺、聚發砜等復合薄膜
● 適用的溫度從15℃到膜生產商允許的高溫度45℃
● 標準的稀釋比例是每升水中含量25克的HT-MC3，用戶可根據污染輕重程度配置清洗液
【清洗程序】
1.檢查清洗箱，管道和保安過濾器，在保安過濾器中裝入一套新的濾芯。
2.根據系統大小往清洗箱內注入適量的反滲透的水。
3.配置清洗液，當系統正常出力或脫鹽率下降10％或壓差增加10％時，配置濃度為15g/LHT-MC3；當系統正常出力或脫鹽率下降15％或壓差增加15％時配置濃度為25g/L，用調節清洗液的PH值到2.5-3.
4.通過攪拌器或清洗泵打循環完全混合清洗液。
5.加熱清洗劑以提高清洗效果，但不要超過膜生產商計可的溫度，溫度好控制30-40℃